| 摘要 | 第1-15页 |
| ABSTRACT | 第15-20页 |
| 第一章 绪论 | 第20-42页 |
| §1.1 微机电系统简介 | 第20-21页 |
| §1.2 现代微细加工技术 | 第21-31页 |
| ·基本的微细加工过程 | 第21-22页 |
| ·体硅的微加工 | 第22-24页 |
| ·硅表面微加工技术 | 第24页 |
| ·LIGA技术 | 第24-25页 |
| ·高能粒子束直写技术 | 第25-26页 |
| ·电火花微加工技术 | 第26-27页 |
| ·电化学在微细加工中的应用 | 第27-31页 |
| §1.3 约束刻蚀剂层技术(CELT)的简介 | 第31-33页 |
| §1.4 本论文工作的设想与目标 | 第33-37页 |
| 参考文献 | 第37-42页 |
| 第二章 实验方法与仪器 | 第42-52页 |
| §2.1 试剂与被加工材料 | 第42页 |
| ·试剂 | 第42页 |
| ·材料 | 第42页 |
| ·靶材 | 第42页 |
| §2.2 模板(工作电极)的制作 | 第42-46页 |
| ·微圆柱电极的制备 | 第42-43页 |
| ·复杂三维Pt-Ir模板的制备与连接 | 第43-44页 |
| ·复杂硅基模板的制备、连接与包封 | 第44-46页 |
| ·被加工的基底的处理 | 第46页 |
| §2.3 电解池 | 第46-47页 |
| §2.4 超精密电化学微加工系统 | 第47-48页 |
| ·仪器的组成及其性能 | 第47页 |
| ·电化学微加工的基本步骤 | 第47-48页 |
| §2.5 微波等离子体化学增强化学气相沉积系统 | 第48-49页 |
| §2.6 表征方法 | 第49-51页 |
| ·金相显微镜 | 第49页 |
| ·激光扫描共聚焦显微镜 | 第49-50页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-52页 |
| 第三章 CELT用于Ni-Ti合金表面三维微加工 | 第52-71页 |
| §3.1 刻蚀体系的选择 | 第53-54页 |
| §3.2 刻蚀体系的电化学研究 | 第54-62页 |
| ·溶液的pH值NaNO_2的电化学行为影响 | 第54-59页 |
| ·溶液中的F~-对NaNO_2的电化学行为影响 | 第59-62页 |
| §3.3 采用微圆柱电极作为模板研究不同体系的刻蚀分辨率 | 第62-66页 |
| §3.4 复杂三维图形的复制加工 | 第66-67页 |
| §3.5 本章小结 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-71页 |
| 第四章 CELT用于熔融石英表面三维微加工 | 第71-87页 |
| §4.1 石英微加工的主要技术 | 第71-73页 |
| §4.2 HF基溶液刻蚀SiO_2的机理 | 第73-75页 |
| §4.3 微圆柱电极作为模板的刻蚀实验 | 第75-80页 |
| §4.4 复杂三维模板的复制加工 | 第80-82页 |
| §4.5 刻蚀速度与刻蚀分辨率的关系和以及使用脉冲电位模式的原因 | 第82-83页 |
| §4.6 本章小结 | 第83-85页 |
| 参考文献 | 第85-87页 |
| 第五章 CELT技术应用于ZnO纳米线阵列微加工的初探 | 第87-107页 |
| §5.1 研究背景 | 第87-88页 |
| §5.2 微波增强化学气相沉积(PECVD)法制备ZnO纳米线 | 第88-98页 |
| ·空气流速对制备的ZnO纳米线形貌的影响 | 第90-93页 |
| ·气路对硅片上不同位置所制备的ZnO形貌的影响 | 第93-94页 |
| ·Zn粉量、硅片的大小对ZnO形貌的影响 | 第94-98页 |
| §5.3 CELT技术应用于ZnO纳米线阵列微加工的初探 | 第98-103页 |
| §5.4 本章小结 | 第103-104页 |
| 参考文献 | 第104-107页 |
| 作者攻读硕士学位期间发表的论文 | 第107-108页 |
| 致谢 | 第108-109页 |
