高电荷态离子Ar～（q+），Pb～（q+）在Si，Cu，W靶表面上的原子溅射研究

摘要	第1-6页
Abstract	第6-8页
第一章.引言	第8-9页
第二章.高电荷态离子与固体相互作用过程概述	第9-30页
·理论模型	第9-16页
·经典过垒模型	第9-12页
·低速高电荷态离子引起表面原子溅射理论模型研究	第12-16页
·前人的实验研究结果	第16-30页
·固体靶中高电荷态离子的电荷平衡时间	第16-18页
·能损的电荷态相关性	第18-19页
·次级电子发射	第19-22页
·表面原子溅射研究	第22-30页
第三章.实验方案及实验设备	第30-35页
·靶的制备	第30-31页
·实验设备及方案	第31-35页
·ECR离子源的基本原理	第31-32页
·实验过程	第32-35页
第四章.实验结果与讨论	第35-47页
·溅射原子产额与入射离子入射角度相关性	第36-40页
·溅射原子产额与入射离子电荷态相关性	第40-42页
·溅射原子产额与入射离子入射动能相关性	第42-47页
·溅射原子产额与入射离子速度之间的关系	第42-44页
·入射离子的产额与核能损之间的关系	第44-47页
第五章.总结与展望	第47-48页
参考文献	第48-50页
致谢	第50页