摘要 | 第1-6页 |
ABSTRACT | 第6-14页 |
第一章 绪论 | 第14-29页 |
·纳米材料的概述与分类 | 第14-15页 |
·一维纳米结构材料的性质与应用 | 第15-18页 |
·一维纳米结构材料的基本性质 | 第15-16页 |
·一维纳米结构材料的应用 | 第16-18页 |
·一维纳米结构材料的制备方法 | 第18-22页 |
·气相法 | 第19-20页 |
·模板法 | 第20-22页 |
·液相法 | 第22页 |
·一维纳米结构材料的生长机制 | 第22-27页 |
·气-液-固(VLS)机制 | 第22-24页 |
·气固(VS)生长机制 | 第24-25页 |
·氧化物辅助生长机制 | 第25-26页 |
·气—固反应生长机制 | 第26-27页 |
·本论文研究的意义、内容及创新性 | 第27-29页 |
·研究意义 | 第27-28页 |
·研究内容 | 第28页 |
·创新性 | 第28-29页 |
第二章 一维纳米结构材料的制备与表征分析技术 | 第29-37页 |
·一维纳米结构材料的制备 | 第29-33页 |
·实验仪器和化学试剂 | 第29-30页 |
·氧化反应的操作 | 第30页 |
·硫化反应的操作 | 第30-32页 |
·电化学沉积法制备铜纳米线的操作 | 第32-33页 |
·一维纳米结构材料的表征及物性分析方法 | 第33-37页 |
·形貌分析 | 第33-34页 |
·成分分析 | 第34-35页 |
·物性分析 | 第35-37页 |
第三章 铜硫化物纳米线阵列的合成及其光致发光性能的研究 | 第37-54页 |
·合成铜硫化物纳米线阵列的方案设计 | 第38页 |
·铜纳米线阵列的合成及其结构分析 | 第38-42页 |
·电化学法在氧化铝模板内沉积铜纳米线及其结构分析 | 第38-40页 |
·氧化铝模板溶化后铜纳米线阵列的结构分析 | 第40-42页 |
·铜硫化物纳米线阵列的合成及其结构分析 | 第42-51页 |
·混合气氛中铜硫化物纳米线阵列的合成及其结构分析 | 第42-44页 |
·纯硫化氢气氛中铜硫化物纳米线阵列的合成及其结构分析 | 第44-51页 |
·铜硫化物纳米线阵列的光致发光性能研究 | 第51-52页 |
·本章小结 | 第52-54页 |
第四章 掺锑氧化锌纳米线的合成及其光致发光性能的研究 | 第54-66页 |
·实验方案 | 第55页 |
·掺锑氧化锌纳米线在硅衬底表面的生长及其结构分析 | 第55-58页 |
·掺锑氧化锌纳米线在陶瓷片衬底表面的生长及其结构分析 | 第58-63页 |
·掺锑氧化锌纳米线的光致发光性能研究 | 第63-65页 |
·本章小结 | 第65-66页 |
第五章 二步法合成铜锌氧化物纳米线及其光致发光性能的研究 | 第66-78页 |
·二步法实验方案介绍 | 第67页 |
·氧化铜纳米线的合成及其结构分析 | 第67-69页 |
·二步法合成铜锌氧化物纳米线及其结构分析 | 第69-75页 |
·900℃时不同气氛下铜锌氧化物纳米线的合成及其结构分析 | 第69-71页 |
·1000℃时不同气氛下铜锌氧化物纳米线的合成及其结构分析 | 第71-75页 |
·铜锌氧化物纳米线的光致发光性能研究 | 第75-76页 |
·本章小结 | 第76-78页 |
结论 | 第78-80页 |
参考文献 | 第80-87页 |
攻读硕士学位期间发表的论文、专利 | 第87-89页 |
致谢 | 第89页 |