电化学法制备镁盐晶须及第一性原理研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-11页 |
| 第一章 文献综述 | 第11-27页 |
| ·引言 | 第11-13页 |
| ·一维纳米材料 | 第13-18页 |
| ·一维纳米材料的研究进展 | 第13-14页 |
| ·一维纳米材料的特性 | 第14-16页 |
| ·一维纳米材料的制备方法 | 第16-18页 |
| ·硼酸镁晶须 | 第18-20页 |
| ·硼酸镁晶须的结构、性能及应用 | 第18-19页 |
| ·硼酸镁晶须的合成方法 | 第19-20页 |
| ·硅酸镁晶须 | 第20-21页 |
| ·晶须的生长机理 | 第21-23页 |
| ·第一性原理 | 第23-24页 |
| ·本论文研究思路、研究内容及创新性 | 第24-27页 |
| ·本论文研究思路 | 第24页 |
| ·本论文研究内容 | 第24-25页 |
| ·创新性 | 第25-27页 |
| 第二章 实验部分 | 第27-35页 |
| ·实验仪器及试剂 | 第27-28页 |
| ·电极的预处理 | 第28-30页 |
| ·电解液的配置 | 第30页 |
| ·电解 | 第30-31页 |
| ·样品干燥 | 第31页 |
| ·样品的表征 | 第31-35页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM)表征 | 第31页 |
| ·X射线能谱分析(EDS)表征 | 第31-32页 |
| ·X射线衍射(XRD)表征 | 第32页 |
| ·红外光谱分析(IR)表征 | 第32页 |
| ·热重差热分析(TG-DTA)表征 | 第32-35页 |
| 第三章 硼酸镁晶须的制备和表征 | 第35-57页 |
| ·引言 | 第35页 |
| ·实验部分 | 第35-36页 |
| ·晶须的制备 | 第35页 |
| ·晶须的表征 | 第35-36页 |
| ·结果与讨论 | 第36-53页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM)表征 | 第36页 |
| ·X射线衍射(XRD)表征 | 第36-38页 |
| ·X射线能谱分析(EDS)表征 | 第38-39页 |
| ·红外光谱分析(IR)表征 | 第39-40页 |
| ·热重差热分析(TG-DTA)表征 | 第40-41页 |
| ·循环伏安分析 | 第41-42页 |
| ·影响因素 | 第42-53页 |
| ·晶须生长动力学 | 第53-55页 |
| ·电极过程 | 第53页 |
| ·毒化机理探讨 | 第53-55页 |
| ·本章小结 | 第55-57页 |
| 第四章 硅酸镁晶须的制备和表征 | 第57-65页 |
| ·引言 | 第57页 |
| ·实验部分 | 第57-58页 |
| ·结果与讨论 | 第58-63页 |
| ·毒化剂的影响 | 第58-59页 |
| ·电流密度的影响 | 第59-60页 |
| ·硅酸镁晶须的XRD分析 | 第60-61页 |
| ·硅酸镁晶须的EDS分析 | 第61页 |
| ·硅酸镁晶须的IR分析 | 第61-62页 |
| ·硅酸镁晶须的TG分析 | 第62-63页 |
| ·本章小结 | 第63-65页 |
| 第五章 硼酸镁和硅酸镁晶须第一性原理研究 | 第65-73页 |
| ·引言 | 第65页 |
| ·计算模型和方法 | 第65-67页 |
| ·计算模型 | 第65-66页 |
| ·计算方法与性能 | 第66-67页 |
| ·计算结果与讨论 | 第67-72页 |
| ·硼酸镁和硅酸镁晶体的晶格常数 | 第67页 |
| ·硼酸镁晶须的电子结构 | 第67-70页 |
| ·硅酸镁晶须的电子结构 | 第70-72页 |
| ·小结 | 第72-73页 |
| 第六章 结论和建议 | 第73-75页 |
| ·结论 | 第73-74页 |
| ·建议 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-83页 |
| 致谢 | 第83-84页 |
| 硕士期间所发表的学术论文及专利 | 第84页 |
