| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-18页 |
| ·课题研究的目的、意义 | 第8-9页 |
| ·WO_3的基本物理、化学性质，研究现状和应用前景 | 第9-17页 |
| ·WO_3的基本物理性质 | 第9-13页 |
| ·WO_3的晶体结构与相变 | 第9-11页 |
| ·WO_3的电学性质 | 第11-12页 |
| ·WO_3的光学性质 | 第12页 |
| ·WO_3的磁学性能 | 第12页 |
| ·WO_3的热学性质 | 第12-13页 |
| ·WO_3的基本化学性质 | 第13页 |
| ·WO_3材料的应用 | 第13-17页 |
| ·本章要点 | 第17-18页 |
| 第2章 样品的制备与实验方法 | 第18-27页 |
| ·制备工艺流程及基本考虑 | 第18-22页 |
| ·纳米氧化钨细粉的制备与研究 | 第22-27页 |
| ·粉末原料 | 第22-23页 |
| ·工艺流程 | 第23页 |
| ·检测手段 | 第23页 |
| ·结果分析 | 第23-26页 |
| ·球磨时间对三氧化钨粉细化的影响极为显著 | 第23-25页 |
| ·固液比对三氧化钨粉细化的影响显著 | 第25-26页 |
| ·球料比对三氧化钨粉的细化影响显著 | 第26页 |
| ·结论 | 第26-27页 |
| 第3章 实验 | 第27-33页 |
| ·实验目标 | 第27页 |
| ·实验过程 | 第27-29页 |
| ·样品制备过程 | 第27页 |
| ·烧结工艺 | 第27-29页 |
| ·测试方法 | 第29-33页 |
| ·收缩率测量 | 第29-30页 |
| ·体积密度的测试 | 第30页 |
| ·气孔率 | 第30-31页 |
| ·硬度测试 | 第31页 |
| ·物相分析 | 第31页 |
| ·扫描电子显微分析(SEM) | 第31页 |
| ·X射线光电子能谱分析(XPS) | 第31-33页 |
| 第4章 常压烧结结果分析 | 第33-45页 |
| ·三氧化钨粉末粒度对烧结试样的影响分析 | 第33页 |
| ·烧结温度与致密化 | 第33-35页 |
| ·保温时间对致密度的影响 | 第35页 |
| ·成型压力对致密化的影响 | 第35-37页 |
| ·气孔率 | 第37页 |
| ·三氧化钨陶瓷的XRD分析 | 第37-38页 |
| ·三氧化钨陶瓷的显微组织观察与分析 | 第38-41页 |
| ·三氧化钨多晶陶瓷的XPS分析 | 第41-42页 |
| ·烧结机理分析 | 第42-43页 |
| ·本章小节 | 第43-45页 |
| 第5章 氧气氛烧结结果与分析 | 第45-51页 |
| ·烧结工艺 | 第45页 |
| ·三氧化钨粉末粒度对烧结试样的影响分析 | 第45-46页 |
| ·XRD分析 | 第46-47页 |
| ·SEM分析 | 第47-49页 |
| ·XPS分析 | 第49页 |
| ·本章小结 | 第49-51页 |
| 第6章 全文总结 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-55页 |
| 附录 硕士期间完成论文目录 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56页 |