| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 前言 | 第10-23页 |
| ·概述 | 第10-11页 |
| ·高岭土资源 | 第11-13页 |
| ·高岭土的结构与性质 | 第11页 |
| ·高岭土资源分布及利用情况 | 第11-12页 |
| ·高岭土焙烧活化处理 | 第12-13页 |
| ·高岭土粉体为原料合成沸石分子筛 | 第13-15页 |
| ·高岭土粉体为原料合成A 型分子筛 | 第13页 |
| ·高岭土粉体为原料合成Y 型分子筛 | 第13-14页 |
| ·高岭土粉体为原料合成ZSM-5 分子筛 | 第14-15页 |
| ·高岭土微球原位晶化合成分子筛 | 第15-18页 |
| ·原位晶化Y 分子筛技术简介 | 第15-16页 |
| ·原位晶化Y 分子筛技术发展 | 第16-18页 |
| ·高硅铝比分子筛的合成 | 第18-21页 |
| ·高硅Y 型分子筛的合成特点 | 第18-19页 |
| ·高硅Y 型分子筛二次合成 | 第19页 |
| ·高硅Y 型分子筛直接法合成 | 第19-21页 |
| ·现存问题及研究思路 | 第21-23页 |
| 第二章 实验部分 | 第23-28页 |
| ·实验药品及仪器 | 第23-24页 |
| ·实验药品 | 第23页 |
| ·实验仪器 | 第23-24页 |
| ·样品合成 | 第24-26页 |
| ·合成导向剂 | 第24页 |
| ·静态法原位合成Y 型分子筛 | 第24页 |
| ·动态法原位合成Y 型分子筛 | 第24页 |
| ·原位Y 型分子筛的改性及水热老化处理 | 第24-25页 |
| ·反应评价 | 第25-26页 |
| ·合成催化剂样品表征 | 第26-28页 |
| ·粉末X 射线衍射分析（XRD） | 第26页 |
| ·低温氮气吸脱附表征 | 第26页 |
| ·程序升温脱附（NH_3-TPD）表征 | 第26页 |
| ·红外光谱（FT-IR）测试 | 第26-27页 |
| ·扫描电镜（SEM）表征 | 第27页 |
| ·模拟蒸馏分析 | 第27-28页 |
| 第三章 高岭土微球静态原位合成高硅Y | 第28-38页 |
| ·活化温度选定 | 第28-30页 |
| ·Y 型分子筛的制备 | 第30-34页 |
| ·碱加入量对原位合成的影响 | 第30-32页 |
| ·投料Si0_2/Al_20_3 对合成产物的影响 | 第32-33页 |
| ·水加入量对合成产物的影响 | 第33-34页 |
| ·Y 沸石分子筛合成位置研究 | 第34-37页 |
| ·结果讨论与分析 | 第37页 |
| ·小结 | 第37-38页 |
| 第四章 高岭土微球动态原位合成高硅Y | 第38-61页 |
| ·Y 型分子筛合成配比影响考察 | 第38-48页 |
| ·投料Si0+2/Al_20_3 的影响 | 第38-41页 |
| ·碱度的影响 | 第41-44页 |
| ·导向剂加入量的影响 | 第44-46页 |
| ·水加入量的影响 | 第46-48页 |
| ·Y 型分子筛合成条件影响考察 | 第48-52页 |
| ·晶化时间的影响 | 第48-50页 |
| ·晶化温度的影响 | 第50-52页 |
| ·动态法与静态法对比合成 | 第52页 |
| ·正交试验 | 第52-57页 |
| ·正交实验设计 | 第53页 |
| ·正交实验分析 | 第53-56页 |
| ·优化条件下合成的高硅铝比Y 型分子筛 | 第56页 |
| ·放大实验 | 第56-57页 |
| ·合成机理 | 第57-60页 |
| ·小结 | 第60-61页 |
| 第五章 原位高硅Y 型分子筛稳定性及反应评价 | 第61-74页 |
| ·前言 | 第61页 |
| ·分子筛热稳定性研究 | 第61-63页 |
| ·分子筛水热稳定性研究 | 第63-65页 |
| ·原位合成产物表观形貌、酸性质及孔结构表征 | 第65-70页 |
| ·晶化产物的表观形貌 | 第65-66页 |
| ·晶化产物的酸性质 | 第66-68页 |
| ·晶化产物的孔结构及比表面积 | 第68-69页 |
| ·晶化产物红外骨架 | 第69-70页 |
| ·高岭土原位高硅Y 型分子筛固定床反应评价 | 第70-72页 |
| ·结果分析与讨论 | 第72-73页 |
| ·小结 | 第73-74页 |
| 结论 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-81页 |
| 攻读硕士学位期间取得的学术成果 | 第81-82页 |
| 致谢 | 第82页 |