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钛酸铋低维材料的制备及性能研究

目录第1-7页
中文摘要第7-9页
ABSTRACT第9-11页
第一章 绪论第11-25页
   ·介电材料第11-14页
   ·薄膜功能材料第14-17页
     ·薄膜材料概述第14-15页
     ·薄膜的制备技术第15-17页
   ·钛酸铋系列材料第17-20页
     ·Bi_4Ti_3O_(12)第18-19页
     ·Bi_4Ti_3O_7第19-20页
   ·本论文的研究目的及主要内容第20-22页
 参考文献第22-25页
第二章 钛酸铋薄膜材料的制备及测试方法第25-33页
   ·引言第25页
   ·薄膜的制备第25-29页
     ·主要仪器设备第25-26页
     ·实验原料第26页
     ·前驱体溶液的配制第26页
     ·衬底材料的选择及清洗第26-27页
     ·薄膜的制备第27-28页
     ·电极的制备第28-29页
   ·分析测试技术第29-32页
     ·差热与热重分析第29页
     ·红外(Infrared-IR)光谱第29页
     ·X-射线衍射分析第29-30页
     ·原子力显微镜第30页
     ·场发射扫描电子显微镜第30页
     ·绝缘性质(电流-电压)第30页
     ·介电性质(介电频谱、介电温谱)第30-32页
 参考文献第32-33页
第三章 钐含量和前驱体溶液浓度对掺钐Bi_2Ti_2O_7薄膜性质的影响第33-44页
   ·引言第33页
   ·钐浓度对掺钐Bi_2Ti_2O_7薄膜的影响第33-38页
     ·实验过程第33-37页
     ·实验结论第37-38页
   ·前驱体溶液浓度对薄膜的影响第38-41页
     ·实验过程第38页
     ·分析测试第38-41页
   ·本章小结第41-42页
 参考文献第42-44页
第四章 (Bi_(1-x)Sm_x)_2Ti_2O_7薄膜的制备及性能研究第44-60页
   ·引言第44页
   ·前驱体溶液分析第44-47页
     ·TG/DTA第44-46页
     ·红外光谱性质第46-47页
   ·制备薄膜所用衬底及薄膜的结晶性及表面形貌第47-51页
     ·制备薄膜所用衬底的 XRD第47-48页
     ·不同衬底上的薄膜的 XRD第48-50页
     ·不同衬底上的薄膜的原子力图第50-51页
   ·薄膜厚度及断面形貌的测量第51-53页
   ·薄膜电学性质的研究第53-57页
     ·Si衬底上的薄膜电学性质第53-56页
     ·Pt衬底上的薄膜电学性质第56-57页
   ·本章小结第57-59页
 参考文献第59-60页
第五章 掺钐Bi_2Ti_2O_7微晶的制备及性质研究第60-68页
   ·引言第60页
   ·制备不同条件下样品的 XRD第60-63页
   ·不同条件下样品制备的表面形貌第63-64页
   ·介电性质的研究第64-66页
   ·本章小结第66-67页
 参考文献第67-68页
第六章 总结第68-72页
   ·主要结论第68-70页
   ·论文创新点及不足第70-72页
  论文创新点第70页
  需要进一步研究的内容第70-72页
致谢第72-73页
攻读硕士期间发表的论文及所获奖励第73-75页
学位论文评阅及答辩情况表第75页

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