ZnO薄膜低温水溶液化学法制备研究
| 中文摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-31页 |
| ·纳米科技 | 第7-10页 |
| ·纳米材料的结构单元 | 第7-8页 |
| ·纳米材料的特性 | 第8-10页 |
| ·纳米ZnO 材料的特性 | 第10-13页 |
| ·ZnO 的晶体结构 | 第10-11页 |
| ·ZnO 的光电性能 | 第11-12页 |
| ·ZnO 的紫外受激发射 | 第12页 |
| ·纳米ZnO 的量子限域效应 | 第12-13页 |
| ·ZnO 纳米材料的应用 | 第13-21页 |
| ·太阳能电池 | 第13-16页 |
| ·光催化环境净化 | 第16-17页 |
| ·气敏器件 | 第17页 |
| ·半导体紫外激光器 | 第17-18页 |
| ·场发射器 | 第18-19页 |
| ·薄膜晶体管 | 第19-20页 |
| ·发光二极管 | 第20页 |
| ·光二极管 | 第20-21页 |
| ·纳米ZnO 薄膜的制备方法 | 第21-29页 |
| ·喷雾热分解技术 | 第21-22页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD)法 | 第22页 |
| ·溶胶－凝胶(Sol-Gel)法 | 第22-23页 |
| ·金属有机化学气相沉积(MOCVD)法 | 第23-24页 |
| ·分子束外延(MBE)法 | 第24页 |
| ·气相传输法 | 第24-26页 |
| ·连续离子层吸附(SILAR)反应法 | 第26-27页 |
| ·低温水溶液化学法 | 第27-29页 |
| ·课题的提出 | 第29-31页 |
| 第二章 HMT 系统ZnO 薄膜的生长研究 | 第31-60页 |
| ·引言 | 第31页 |
| ·实验部分 | 第31-36页 |
| ·方案设计及实验用品 | 第31-33页 |
| ·缓冲层的制备 | 第33-35页 |
| ·ZnO 薄膜的水溶液生长 | 第35页 |
| ·测试与表征 | 第35-36页 |
| ·结果与讨论 | 第36-58页 |
| ·HMT 体系内的生长机制 | 第36-41页 |
| ·基底对薄膜生长的影响 | 第41-47页 |
| ·生长液浓度对ZnO 薄膜形貌的影响 | 第47-51页 |
| ·生长时间的影响 | 第51-53页 |
| ·离子强度的影响 | 第53-57页 |
| ·AcAc 辅助剂的影响 | 第57-58页 |
| ·本章结论 | 第58-60页 |
| 第三章 无机体系碱性溶液生长ZnO 薄膜 | 第60-91页 |
| ·引言 | 第60页 |
| ·实验 | 第60-64页 |
| ·实验所用原料 | 第60-61页 |
| ·实验方案设计 | 第61-63页 |
| ·实验过程 | 第63-64页 |
| ·测试与表征 | 第64页 |
| ·结果与讨论 | 第64-90页 |
| ·碱性水溶液的基本性质 | 第64-67页 |
| ·生长晶体特征 | 第67-69页 |
| ·晶种面织构对ZnO 纳米棒生长形貌的影响 | 第69-79页 |
| ·生长溶液浓度的影响 | 第79-82页 |
| ·生长溶液ｐＨ值的作用 | 第82-84页 |
| ·生长温度的影响 | 第84-88页 |
| ·生长时间的影响 | 第88-90页 |
| ·本章结论 | 第90-91页 |
| 第四章 ZnO 柱晶的腐蚀 | 第91-111页 |
| ·引言 | 第91-92页 |
| ·实验 | 第92-95页 |
| ·实验原料及方案设计 | 第92-94页 |
| ·实验过程 | 第94页 |
| ·测试与表征 | 第94-95页 |
| ·结果与讨论 | 第95-110页 |
| ·腐蚀溶液浓度的影响 | 第95-96页 |
| ·柱晶原晶尺寸的影响 | 第96-102页 |
| ·腐蚀的机理探讨 | 第102-103页 |
| ·长时间腐蚀的二次生长 | 第103-110页 |
| ·本章结论 | 第110-111页 |
| 第五章 结论 | 第111-113页 |
| 参考文献 | 第113-124页 |
| 攻读博士学位期间发表论文和科研情况说明 | 第124-127页 |
| 致谢 | 第127页 |
