| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-31页 |
| ·铁电存储器的特点及在SOC 中的应用前景 | 第9-10页 |
| ·嵌入式铁电存储器研究的主要内容 | 第10-23页 |
| ·铁电存储器的研究现状及存在的问题 | 第23-28页 |
| ·集成铁电电容研究的意义 | 第28-29页 |
| ·本文的工作 | 第29-31页 |
| 2 铁电电容介质材料的选取与制备 | 第31-47页 |
| ·铁电材料的选取 | 第31-36页 |
| ·衬底、电极与铁电薄膜的结构设计 | 第36-39页 |
| ·铁电材料的制备 | 第39-45页 |
| ·本章小结 | 第45-47页 |
| 3 不同结构PZT 铁电薄膜的性能研究 | 第47-64页 |
| ·不同结构PZT 铁电薄膜的微结构分析 | 第47-54页 |
| ·不同结构PZT 铁电薄膜的电学性能分析 | 第54-57页 |
| ·PT 层中的过量Pb 配比对薄膜电学性能的影响 | 第57-63页 |
| ·本章小结 | 第63-64页 |
| 4 铁电薄膜的电畴结构与极化保持特性研究 | 第64-83页 |
| ·SFM 研究铁电薄膜电畴的原理 | 第64-68页 |
| ·PT/PZT/PT 铁电薄膜的电畴结构 | 第68-74页 |
| ·铁电薄膜电畴的极化反转 | 第74-79页 |
| ·铁电电畴极化保持特性 | 第79-81页 |
| ·本章小结 | 第81-83页 |
| 5 集成铁电电容的工艺实现 | 第83-100页 |
| ·MFM 结构铁电电容的集成工艺 | 第83-87页 |
| ·铁电薄膜的刻蚀损伤 | 第87-92页 |
| ·集成铁电电容的无损刻蚀集成工艺 | 第92-98页 |
| ·本章小结 | 第98-100页 |
| 6 铁电电容的建模 | 第100-114页 |
| ·铁电电容模型 | 第101-108页 |
| ·模型的验证 | 第108-111页 |
| ·模型与集成电路设计仿真平台的结合 | 第111-113页 |
| ·本章小结 | 第113-114页 |
| 7 基于铁电电容模型的铁电存储器优化设计 | 第114-132页 |
| ·铁电存储器的器件结构及存储单元 | 第114-118页 |
| ·128×86it 嵌入式铁电存储器的电路设计与仿真 | 第118-124页 |
| ·128×86it 嵌入式铁电存储器的版图优化设计 | 第124-131页 |
| ·本章小结 | 第131-132页 |
| 8 全文总结 | 第132-134页 |
| 致谢 | 第134-135页 |
| 参考文献 | 第135-155页 |
| 附录(攻读博士学位期间发表和待发表的论文) | 第155-156页 |