TiB2和Ti-B-N超硬涂层的研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 1 绪论 | 第10-22页 |
| ·研究背景 | 第10-11页 |
| ·超硬涂层的研究进展 | 第11-15页 |
| ·制备方法 | 第15-20页 |
| ·本课题研究的内容及意义 | 第20-21页 |
| ·本研究课题的技术路线 | 第21-22页 |
| 2 TiB_2涂层的制备及性能检测 | 第22-34页 |
| ·实验装置 | 第22-23页 |
| ·靶材和基片的选择 | 第23-24页 |
| ·基本工艺参数的选择 | 第24-26页 |
| ·工艺流程 | 第26-27页 |
| ·涂层的性能检测 | 第27-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 3 TiB_2涂层的性能分析 | 第34-48页 |
| ·初步实验及性能分析 | 第34-40页 |
| ·基片偏压的影响 | 第40-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 4 Ti-B-N 涂层的制备及性能研究 | 第48-57页 |
| ·制备工艺 | 第48-49页 |
| ·TiB_2, Ti-B-N 涂层的对比研究 | 第49-53页 |
| ·Ti-B-N 涂层的优化实验结果及分析 | 第53-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 5 全文总结 | 第57-59页 |
| ·本文主要结论 | 第57-58页 |
| ·本文的创新点 | 第58页 |
| ·展望 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59-65页 |
| 附录 攻读硕士期间发表和待发表的论文 | 第65页 |
