| 第一章 绪论 | 第1-14页 |
| ·真空灭弧室 | 第9-11页 |
| ·真空灭弧室的基本结构和工作原理 | 第9-11页 |
| ·真空灭弧室国内外发展概括和现状 | 第11-12页 |
| ·本课题研究的背景 | 第12-13页 |
| ·本课题的目标 | 第13-14页 |
| 第二章 纵向磁场对真空弧室灭开断性能的影响 | 第14-30页 |
| ·真空灭弧室的工作机理 | 第14-18页 |
| ·真空间隙在真空中的电击穿理论 | 第14-15页 |
| ·电子发射引起的预击穿机理——场电子发射理论 | 第14页 |
| ·阴极或阳极引起的击穿 | 第14-15页 |
| ·微粒引起的击穿机理——微粒说 | 第15页 |
| ·真空电弧的特性 | 第15-17页 |
| ·扩散型真空电弧 | 第16页 |
| ·集聚型真空电弧 | 第16-17页 |
| ·弧后介质的恢复 | 第17-18页 |
| ·真空电弧的控制技术 | 第18-20页 |
| ·横向磁场触头 | 第18-19页 |
| ·纵向磁场触头结构 | 第19-20页 |
| ·纵向磁场对开断性能的影响 | 第20-30页 |
| ·纵向磁场对真空电弧的作用 | 第20-23页 |
| ·纵向磁场与电弧形态 | 第23-25页 |
| ·纵向磁场强度对开断性能的影响 | 第25-27页 |
| ·纵向磁场电极结构与剩余磁场 | 第27-30页 |
| 第三章 一种具有1/2 匝线圈纵向磁场触头结构的真空灭弧室的设计与制造 | 第30-39页 |
| ·线圈式双极纵向磁场触头的设计特点结构 | 第30-32页 |
| ·触头材料的选用 | 第32-35页 |
| ·线圈式两极纵向磁场触头真空灭弧室的结构 | 第35-37页 |
| ·线圈式两极纵向磁场触头真空灭弧室的制造工艺 | 第37-39页 |
| 第四章 纵向磁场与涡流的计算与分析 | 第39-44页 |
| ·线圈式两极与四级纵向磁场触头结构磁场计算分析 | 第39-42页 |
| ·线圈式两极与四级纵向磁场触头结构静纵向磁场计算分析 | 第39-41页 |
| ·线圈式两极纵向磁场触头结构三维交变纵向磁场的计算分析 | 第41-42页 |
| ·线圈式两极纵向磁场触头结构的涡流 | 第42-44页 |
| 第五章 1/2 线圈纵向磁场触头结构真空灭弧室分断能力的试验 | 第44-51页 |
| ·试验方法及试验装置 | 第44-47页 |
| ·合成回路的构成原理 | 第44-45页 |
| ·本实验所采用的合成回路 | 第45-46页 |
| ·实验步骤 | 第46-47页 |
| ·开断实验试验结果与分析 | 第47-51页 |
| ·试验数据的测量 | 第47-48页 |
| ·试验结果与分析 | 第48-51页 |
| 第六章 讨论 | 第51-53页 |
| 第七章 结论 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 个人简历、在学期间的研究成果 | 第58页 |
