| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第一章 概述 | 第9-28页 |
| ·超导材料简介 | 第9-11页 |
| ·高Tc 超导薄膜应用 | 第11-13页 |
| ·超导薄膜的制备技术 | 第13-16页 |
| ·基片的选择 | 第16-20页 |
| ·缓冲层的选择 | 第20-24页 |
| ·CeO_2 的性质、应用、作用 | 第24-25页 |
| ·CeO_2 的性质与应用 | 第24-25页 |
| ·CeO_2 薄膜在YBCO/CeO_2 /Al_2O_3 的作用 | 第25页 |
| ·本论文的目标和内容 | 第25-28页 |
| 第二章 实验原理、设备及分析检测 | 第28-39页 |
| ·溅射制膜技术 | 第28-33页 |
| ·射频溅射原理及特点 | 第28-32页 |
| ·射频辉光放电 | 第29页 |
| ·射频原理 | 第29-30页 |
| ·射频溅射的自偏压 | 第30-31页 |
| ·射频溅射的特点 | 第31-32页 |
| ·对靶射频溅射装置简介 | 第32-33页 |
| ·薄膜的分析表征方法 | 第33-39页 |
| ·微观结构和表面形貌表征 | 第33-35页 |
| ·薄膜的厚度检测方法 | 第35-36页 |
| ·YBCO 薄膜的电性能分析 | 第36-39页 |
| ·临界转变温度(TC) | 第36-37页 |
| ·临界电流密度(JC) | 第37-38页 |
| ·微波表面电阻(R_S) | 第38-39页 |
| 第三章 CeO_2 薄膜生长工艺研究 | 第39-56页 |
| ·基片温度的影响 | 第39-45页 |
| ·对薄膜结构的影响 | 第40-43页 |
| ·对表面形貌的影响 | 第43-45页 |
| ·小结 | 第45页 |
| ·射频功率的影响 | 第45-49页 |
| ·样品的制备 | 第45-46页 |
| ·结果与讨论 | 第46-49页 |
| ·小结 | 第49页 |
| ·气压的影响 | 第49-51页 |
| ·样品的制备 | 第50页 |
| ·小结 | 第50-51页 |
| ·CeO_2 薄膜厚度的影响 | 第51-56页 |
| ·样品的制备 | 第51-52页 |
| ·CeO_2 薄膜厚度临界值 | 第52页 |
| ·CeO_2 薄膜厚度对YBCO 超导薄膜生长的影响 | 第52-54页 |
| ·CeO_2 薄膜生长机理 | 第54-55页 |
| ·小结 | 第55-56页 |
| 第四章 CeO_2 缓冲层上生长YBCO 超导薄膜的研究 | 第56-63页 |
| ·引言 | 第56页 |
| ·实验 | 第56-57页 |
| ·测试结果 | 第57-62页 |
| ·小结 | 第62-63页 |
| 第五章 薄膜超导电性能与晶体结构的关系初探 | 第63-72页 |
| ·样品的制备及分析 | 第63-67页 |
| ·结果与讨论 | 第67-71页 |
| ·面外取向与临界电流密度以及微波表面电阻之间的关系 | 第67-68页 |
| ·面内取向与临界电流密度以及微波表面电阻之间的关系 | 第68-70页 |
| ·c 轴长度与临界电流密度以及微波表面电阻之间的关系 | 第70-71页 |
| ·小结 | 第71-72页 |
| 结论 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-80页 |
| 致谢 | 第80-81页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文 | 第81页 |
