前言 | 第1-9页 |
第一章 文献综述 | 第9-21页 |
1.1 概述 | 第9-10页 |
1.2 TS-1 分子筛的合成方法 | 第10-13页 |
1.2.1 直接水热合成法 | 第10-12页 |
1.2.2 气固相同晶取代法 | 第12-13页 |
1.2.3 液固相同晶取代法 | 第13页 |
1.3 TS-1 分子筛的表征概况 | 第13-17页 |
1.3.1 X 射线粉末衍射(XRD) | 第14页 |
1.3.2 扫描/透射电子显微镜(SEM/TEM) | 第14页 |
1.3.3 傅立叶变换红外光谱(FT-IR) | 第14-15页 |
1.3.4 紫外漫反射光谱(UV-Vis) | 第15页 |
1.3.5 拉曼光谱(Raman) | 第15-16页 |
1.3.6 电子自旋顺磁共振谱(ESR) | 第16页 |
1.3.7 X 光电子能谱(XPS) | 第16页 |
1.3.8 硅魔角核磁共振谱(~(29)Si MAS NMR) | 第16页 |
1.3.9 氢气程序升温还原(H_2-TPR) | 第16-17页 |
1.4 TS-1 分子筛的应用 | 第17-18页 |
1.4.1 环己酮氨氧化 | 第17页 |
1.4.2 丙烯环氧化 | 第17-18页 |
1.5 过氧化氢的分解 | 第18-20页 |
1.5.1 H_2O_2 分解机理 | 第18-19页 |
1.5.2 H_2O_2 稳定剂的稳定机理 | 第19-20页 |
1.6 本课题的研究内容及意义 | 第20-21页 |
第二章 TS-1 分子筛的合成及表征 | 第21-35页 |
2.1 实验原料与合成方法 | 第21-23页 |
2.1.1 合成原料 | 第21-22页 |
2.1.2 TS-1 分子筛的合成 | 第22-23页 |
2.2 TS-1 分子筛样品的表征 | 第23-24页 |
2.2.1 X 射线粉末衍射(XRD) | 第23页 |
2.2.2 傅立叶变换红外光谱(FT-IR) | 第23-24页 |
2.2.3 拉曼光谱(Raman) | 第24页 |
2.2.4 扫描电子显微镜(SEM) | 第24页 |
2.2.5 氢气程序升温还原(H_2-TPR) | 第24页 |
2.3 TS-1 分子筛催化性能研究 | 第24-28页 |
2.3.1 氯丙烯环氧化反应 | 第24-25页 |
2.3.2 分析方法 | 第25-27页 |
2.3.3 氯丙烯转化率、环氧氯丙烷收率及H_2O_2 有效利用率 | 第27-28页 |
2.4 结果与讨论 | 第28-35页 |
2.4.1 XRD | 第28-29页 |
2.4.2 FT-IR | 第29-30页 |
2.4.3 Raman | 第30-31页 |
2.4.4 SEM | 第31-32页 |
2.4.5 H_2-TPR | 第32-33页 |
2.4.6 氯丙烯的环氧化反应 | 第33-35页 |
第三章 TS-1 分子筛合成条件对H_2O_2稳定性的影响 | 第35-53页 |
3.1 H_2O_2 分解率的测定 | 第35-36页 |
3.2 TS-1 分子筛晶化前合成条件对H_2O_2 稳定性的影响 | 第36-41页 |
3.2.1 极差分析 | 第38-40页 |
3.2.2 方差分析 | 第40-41页 |
3.3 TS-1 分子筛焙烧条件对H_2O_2 稳定性的影响 | 第41-45页 |
3.3.1 焙烧温度对H_2O_2 稳定性的影响 | 第41-43页 |
3.3.2 焙烧时间对H_2O_2 稳定性的影响 | 第43-45页 |
3.4 模板剂来源对H_2O_2 稳定性的影响 | 第45-46页 |
3.5 反应温度对H_2O_2 稳定性的影响 | 第46-48页 |
3.6 TS-1 分子筛浓度对H_2O_2 稳定性的影响 | 第48-50页 |
3.7 TS-1 分子筛催化H_2O_2 分解的动力学研究 | 第50-53页 |
第四章 稳定剂对TS-1/H_2O_2体系中H_2O_2的稳定作用 | 第53-58页 |
4.1 六偏磷酸钠浓度对H_2O_2 稳定性的影响 | 第53-54页 |
4.2 焦磷酸钠浓度对H_2O_2 稳定性的影响 | 第54页 |
4.3 锡酸钠浓度对H_2O_2 稳定性的影响 | 第54页 |
4.4 EDTA 浓度对H_2O_2 稳定性的影响 | 第54-56页 |
4.5 磷酸对H_2O_2 稳定性的影响 | 第56页 |
4.6 有机稳定剂对H_2O_2 稳定性的影响 | 第56-57页 |
4.7 小结 | 第57-58页 |
第五章 结论 | 第58-59页 |
参考文献 | 第59-64页 |
发表论文和科研情况说明 | 第64-65页 |
致谢 | 第65页 |