| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 第一章 综述 | 第7-30页 |
| 1．1 氮化硅概述 | 第7-15页 |
| 1．1．1 Si_3N_4基本性质 | 第7页 |
| 1．1．2 氮化硅的晶体结构 | 第7-10页 |
| 1．1．3 氮化硅陶瓷的制备方法 | 第10-13页 |
| 1．1．4 氮化硅陶瓷的性能 | 第13-14页 |
| 1．1．5 氮化硅陶瓷的应用 | 第14-15页 |
| 1．2 多孔陶瓷概述 | 第15-28页 |
| 1．2．1 多孔陶瓷的表征方法及检测手段 | 第16-17页 |
| 1．2．2 多孔陶瓷的类型 | 第17-18页 |
| 1．2．3 多孔陶瓷的制备 | 第18-22页 |
| 1．2．4 多孔陶瓷的性能及其应用 | 第22-25页 |
| 1．2．5 国内外多孔陶瓷的生产现状与展望 | 第25-28页 |
| 1．3 氮化硅基多孔陶瓷材料的研究进展与应用前景 | 第28-29页 |
| 1．4 本课题的主要研究内容 | 第29-30页 |
| 第二章 实验 | 第30-38页 |
| 2．1 Si-N反应的热力学研究 | 第30-32页 |
| 2．2 实验方案 | 第32-34页 |
| 2．2．1 造孔剂的确定 | 第32-33页 |
| 2．2．2 烧结助剂的确定 | 第33页 |
| 2．2．3 工艺参数的确定 | 第33-34页 |
| 2．3 实验原料 | 第34-35页 |
| 2．4 实验流程 | 第35-36页 |
| 2．5 实验设备 | 第36页 |
| 2．6 气孔率与平均孔径的测定 | 第36-38页 |
| 第三章 结果与分析 | 第38-63页 |
| 3．1 造孔剂对氮化硅多孔陶瓷制备的影响 | 第38-48页 |
| 3．1．1 造孔剂用量及 XRD分析 | 第38-42页 |
| 3．1．2 氧化物与合金元素复合添加对 XRD的影响 | 第42-44页 |
| 3．1．3 造孔剂对氮化硅多孔陶瓷气孔率及体积密度的影响 | 第44-45页 |
| 3．1．4 造孔剂对氮化硅多孔陶瓷孔径的影响 | 第45-48页 |
| 3．2 烧结助剂用量对氮化硅多孔陶瓷的影响 | 第48-56页 |
| 3．2．1 烧结助剂用量及其 XRD分析 | 第48-52页 |
| 3．2．2 烧结助剂对氮化硅多孔陶瓷显气孔率及体积密度的影响 | 第52-54页 |
| 3．2．3 烧结助剂对氮化硅多孔陶瓷孔径的影响 | 第54-56页 |
| 3．3 压力影响气孔率的结果与分析 | 第56-58页 |
| 3．4 压力对维氏硬度影响的结果与分析 | 第58-59页 |
| 3．5 对氮化硅多孔陶瓷强度的探讨 | 第59-63页 |
| 3．5．1 对氮化硅多孔陶瓷抗压强度的探讨 | 第59-61页 |
| 3．5．2 对氮化硅多孔陶瓷抗弯强度的探讨 | 第61-63页 |
| 第四章 结论 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-69页 |
| 附录 | 第69页 |
