| 第一章 绪论 | 第1-20页 |
| 1．1 光学薄膜的应用 | 第6-8页 |
| 1．2 光学薄膜的制备方法 | 第8-11页 |
| 1．3 薄膜的微结构特性 | 第11-13页 |
| 1．4 离子辅助沉积技术(IAD) | 第13-17页 |
| 1．4．1 离子辅助沉积技术概述 | 第13-14页 |
| 1．4．2 常用离子源介绍 | 第14-16页 |
| 1．4．3 Kaufman和Hall源性能比较 | 第16-17页 |
| 1．5 本课题的研究工作 | 第17-18页 |
| 参考文献 | 第18-20页 |
| 第二章 离子辅助沉积对单层膜特性的影响 | 第20-47页 |
| 2．1 薄膜材料属性 | 第20-22页 |
| 2．1．1 TiO_2 | 第20-21页 |
| 2．1．2 Ta_2O_5 | 第21页 |
| 2．1．3 SiO_2 | 第21-22页 |
| 2．2 薄膜制备 | 第22-25页 |
| 2．2．1 实验设备 | 第22-23页 |
| 2．2．2 制备工艺参数控制 | 第23-24页 |
| 2．2．3 具体制备过程 | 第24-25页 |
| 2．3 特性检测原理和方法 | 第25-29页 |
| 2．3．1 光学特性 | 第25-29页 |
| 2．3．2 力学特性 | 第29页 |
| 2．4 实验结果和数据分析 | 第29-44页 |
| 2．4．1 常规工艺下和离子辅助条件下制备的薄膜光学特性 | 第29-35页 |
| 2．4．2 常规工艺下和离子辅助条件下制备的薄膜力学特性 | 第35-44页 |
| 2．5 结语 | 第44-45页 |
| 参考文献 | 第45-47页 |
| 第三章 离子辅助沉积对多层膜特性的影响 | 第47-62页 |
| 3．1 相关理论阐述 | 第47-53页 |
| 3．1．1 窄带干涉滤光片 | 第47-49页 |
| 3．1．2 波长漂移(Δλ) | 第49-53页 |
| 3．1．3 光谱漂移(??)测试 | 第53页 |
| 3．2 全介质F—P干涉滤光片的制备 | 第53-55页 |
| 3．2．1 实验环境 | 第53页 |
| 3．2．2 镀膜工艺过程中遇到的问题及分析 | 第53-55页 |
| 3．3 实验结果及数据分析 | 第55-61页 |
| 3．3．1 TiO_2—SiO_2窄带滤光片 | 第56-58页 |
| 3．3．2 Ta_2O_5—SiO_2窄带滤光片 | 第58-60页 |
| 3．3．3 多层薄膜的应力分析 | 第60-61页 |
| 3．4 结语 | 第61页 |
| 参考文献 | 第61-62页 |
| 第四章 几种氧化物薄膜的比较 | 第62-66页 |
| 4．1 光谱曲线的测试 | 第62-63页 |
| 4．2 波长漂移的比较 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-66页 |
| 第五章 总结与展望 | 第66-68页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69页 |